序號 | 產物種別 | 產物稱號 | 英文稱號 | 化學式 | 級別 | 純度 | 用處 | ||||
1 | 含氟特氣 | 六氟化硫 | Sulfur Hexafluoride | SF6 | 高純級 HP | 99.997%(4N7) | 滅弧絕緣氣體,特高壓輸變電電力裝備用 | ||||
2 | 含氟特氣 | 六氟化硫 | Sulfur Hexafluoride | SF6 | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
3 | 含氟特氣 | 四氟化碳 | Carbon Tetrafluoride | CF4 | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程;也大批利用于光纖棒建造工藝進程 | ||||
4 | 含氟特氣 | 六氟乙烷 | Hexafluoroethane | C2F6 | 電子級 EL | 99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
5 | 含氟特氣 | 三氟甲烷 | Trifluoromethane | CHF3 | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
6 | 含氟特氣 | 八氟環丁烷 | Octafluorocyclobutane | C4F8 | 電子級 EL | 99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
7 | 含氟特氣 | 氟氮夾雜氣 | Fluorine Nitrogen mixture | F2/N2 | 電子級 EL | F2: 99.95%(3N5) N2:99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
8 | 含氟特氣 | 八氟丙烷 | Perfluoropropane | C3F8 | 電子級 EL | 99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
9 | 含氟特氣 | 二氟甲烷 | Difluoromethane | CH2F2 | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
10 | 含氟特氣 | 一氟甲烷 | Fluoromethane | CH3F | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
11 | 含氟特氣 | 三氟化氯 | Chlorine Trifluoride | ClF3 | 電子級 EL | 99.995%(4N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
12 | 含氟特氣 | 三氟化磷 | Phosphorus trifluoride | PF3 | 電子級 EL | 99.99%(4N) | 電子氣體,蝕刻工藝利用,將用于精深寬比的高層新一代產物刻蝕 | ||||
13 | 電子特氣 | 硅烷 | Silane | SiH4 | 電子級 EL | 99.9999%(6N) | 普遍利用于微電子、光電子、太能能電池制作、平板顯現器、集成電路、鋰電池制作、碳硅負極等范疇 | ||||
14 | 電子特氣 | 氧化亞氮 | Nitrous Oxygen | N2O | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 用于半導體產業SIO2薄膜堆積等工藝,光伏產業金屬背光氣氧化、氮攙雜氧化、調控資料外表和界面布局等,也可用于真空撿漏、溶劑及煙霧殺蟲劑等范疇 | ||||
15 | 電子特氣 | 液氧 | Ultra-pure Oxygen | O2 | 電子級 EL | 99.9999%(6N) | 用于半導體產業等離子蝕刻等工藝,光伏產業化學氣相堆積、硅片的洗濯時辰和電池片鈍化等,特種冶煉除雜,醫學醫治、電子產業等離子刻蝕,航空航天等范疇 | ||||
16 | 罕見氣體 | 高純氙 | High Purity Xenon | Xe | 電子級 EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
17 | 罕見氣體 | 高純氪 | High Purity Krypton | Kr | 電子級 EL | 99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
18 | 罕見氣體 | 高純氖 | High Purity Neon | Ne | 電子級 EL | 99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
19 | 罕見氣體 | 高純氦 | High Purity Helium | He | 電子級 EL | 99.999%(5N) | 電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
20 | 根本化學品 | 無水氟化氫 | Hydrogen Fluoride | AHF | 產業級 IN | 99.98%(3N) | 用于制取氟元素、氟鹽、氟鹵烷也可用作氟化劑。制備電子級氫氟酸。普遍用于半導體制程、光伏行業、制冷劑、新動力、橡膠涂料、金屬外表處置等范疇 | ||||
21 | 根本化學品 | 氫氟酸 | Hydrofluoric Acid | HF | 產業級 IN | - | 普遍用于玻璃產業、半導體制程、光伏行業、制冷劑、新動力、橡膠涂料、金屬外表處置等范疇 | ||||
22 | 新動力資料 | 六氟磷酸鋰 | Lithium hexafluorophosphate | LiPF6 | 電池級(晶體) | 99.95%(3N5) | 鋰電池電解液首要鋰鹽 | ||||
23 | 新動力資料 | 四氟硼酸鋰 | Lithium tetrafluoroborate | LiBF4 | 電池級(晶體) | 99.50% | 鋰電池電解液功效性新型增加劑 | ||||
24 | 新動力資料 | 雙草酸硼酸鋰 | Lithium bisoxalate borate | LiBOB | 電池級(晶體) | 99.50% | 鋰電池電解液功效性新型增加劑 | ||||
25 | 新動力資料 | 二氟磷酸鋰 | Lithium difluorophosphate | LiPO2F2 | 電池級(晶體) | 99.9%(3N) | 鋰電池電解液功效性新型增加劑 | ||||
26 | 新動力資料 | 二氟草酸硼酸鋰 | Lithium borate difluoroxalate | LiDFOB | 電池級(晶體) | 99.9%(3N) | 鋰電池電解液功效性新型增加劑 | ||||
27 | 新動力資料 | 二氟雙草酸磷酸鋰 | Lithium difluorodioxalate phosphate | C4F2LiO8P | 電池級(EMC液態) | 20±2%(濃度) | 鋰電池電解液功效性新型增加劑 | ||||
28 | 濕電子化學品 | 氫氟酸 | Hydrofluoric Acid | HF | 電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
29 | 超高純氣體 | 氟化氫 | Hydrogen Fluoride | AHF | 電子級 UPSSS | 99.999%(5N) | 電子氣體,蝕刻工藝利用,將用于精深寬比的高層新一代產物刻蝕; | ||||
30 | 濕電子化學品 | 硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
31 | 濕電子化學品 | 氨水 | Ammonia | NH3.H2O | 電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
32 | 濕電子化學品 | 氟化銨 | Ammonium Fluoride | NH4F | 電子級 UPSS、UPS、EL、IN | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | |||||
33 | 濕電子化學品 | 雙氧水 | Hydrogen Peroxide | H2O2 | 電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
34 | 濕電子化學品 | 鹽酸 | Hydrochloric Acid | HCl | 電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
35 | 濕電子化學品 | 硝酸 | Acetic Acid | HNO3 | 電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
36 | TFT化學品 | 光阻剝離液 | Stripper | Mixture | 電子級 EL | 首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | |||||
37 | TFT化學品 | 光阻洗凈液 | EBR | Mixture | 電子級 EL | 首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | |||||
38 | TFT化學品 | 鋁蝕刻液 | Al Etchant | Mixture | 電子級 EL | 首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | |||||
39 | TFT化學品 | 銅蝕刻液 | Cu Etchant | Mixture | 電子級 EL | 首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | |||||
40 | TFT化學品 | BOE蝕刻液 | BOE Etachant | Mixture | 電子級 UPSS、UPS、 EL | <100 ppt | 首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程 | ||||
41 | 根本化學品 | 98%硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 產業級IN | ||||||
42 | 根本化學品 | 104.5%發煙硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 產業級IN | ||||||
43 | 根本化學品 | 精制硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 產業級IN | ||||||
44 | 根本化學品 | 三氧化硫 | Sulfur Trioxide | SO3 | 產業級IN |