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德爾團體產物

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序號產物種別產物稱號英文稱號化學式級別純度用處
1含氟特氣六氟化硫Sulfur HexafluorideSF6高純級 HP99.997%(4N7)滅弧絕緣氣體,特高壓輸變電電力裝備用
2含氟特氣六氟化硫Sulfur HexafluorideSF6電子級 EL99.9995%(5N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
3含氟特氣四氟化碳Carbon TetrafluorideCF4電子級 EL99.9995%(5N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程;也大批利用于光纖棒建造工藝進程
4含氟特氣六氟乙烷HexafluoroethaneC2F6電子級 EL99.999%(5N)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
5含氟特氣三氟甲烷TrifluoromethaneCHF3電子級 EL99.9995%(5N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
6含氟特氣八氟環丁烷OctafluorocyclobutaneC4F8電子級 EL99.999%(5N)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
7含氟特氣氟氮夾雜氣Fluorine Nitrogen mixtureF2/N2電子級 ELF2: 99.95%(3N5)
N2:99.999%(5N)
電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
8含氟特氣八氟丙烷PerfluoropropaneC3F8電子級 EL99.999%(5N)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
9含氟特氣二氟甲烷DifluoromethaneCH2F2電子級 EL99.9995%(5N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
10含氟特氣一氟甲烷FluoromethaneCH3F電子級 EL99.9995%(5N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
11含氟特氣三氟化氯Chlorine TrifluorideClF3電子級 EL99.995%(4N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
12含氟特氣三氟化磷Phosphorus trifluoridePF3電子級 EL99.99%(4N)電子氣體,蝕刻工藝利用,將用于精深寬比的高層新一代產物刻蝕
13電子特氣硅烷SilaneSiH4電子級 EL99.9999%(6N)普遍利用于微電子、光電子、太能能電池制作、平板顯現器、集成電路、鋰電池制作、碳硅負極等范疇
14電子特氣氧化亞氮Nitrous OxygenN2O電子級 EL99.9995%(5N5)用于半導體產業SIO2薄膜堆積等工藝,光伏產業金屬背光氣氧化、氮攙雜氧化、調控資料外表和界面布局等,也可用于真空撿漏、溶劑及煙霧殺蟲劑等范疇
15電子特氣液氧Ultra-pure OxygenO2電子級 EL99.9999%(6N)用于半導體產業等離子蝕刻等工藝,光伏產業化學氣相堆積、硅片的洗濯時辰和電池片鈍化等,特種冶煉除雜,醫學醫治、電子產業等離子刻蝕,航空航天等范疇
16罕見氣體高純氙High Purity XenonXe電子級 EL99.9995%(5N5)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
17罕見氣體高純氪High Purity KryptonKr電子級 EL99.999%(5N)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
18罕見氣體高純氖High Purity NeonNe電子級 EL99.999%(5N)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
19罕見氣體高純氦High Purity HeliumHe電子級 EL99.999%(5N)電子氣體,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
20根本化學品無水氟化氫Hydrogen FluorideAHF產業級 IN99.98%(3N)用于制取氟元素、氟鹽、氟鹵烷也可用作氟化劑。制備電子級氫氟酸。普遍用于半導體制程、光伏行業、制冷劑、新動力、橡膠涂料、金屬外表處置等范疇
21根本化學品氫氟酸Hydrofluoric AcidHF產業級 IN-普遍用于玻璃產業、半導體制程、光伏行業、制冷劑、新動力、橡膠涂料、金屬外表處置等范疇
22新動力資料六氟磷酸鋰Lithium hexafluorophosphateLiPF6電池級(晶體)99.95%(3N5)鋰電池電解液首要鋰鹽
23新動力資料四氟硼酸鋰Lithium tetrafluoroborateLiBF4電池級(晶體)99.50%鋰電池電解液功效性新型增加劑
24新動力資料雙草酸硼酸鋰Lithium bisoxalate borateLiBOB 電池級(晶體)99.50%鋰電池電解液功效性新型增加劑
25新動力資料二氟磷酸鋰Lithium difluorophosphateLiPO2F2電池級(晶體)99.9%(3N)鋰電池電解液功效性新型增加劑
26新動力資料二氟草酸硼酸鋰Lithium borate difluoroxalateLiDFOB 電池級(晶體)99.9%(3N)鋰電池電解液功效性新型增加劑
27新動力資料二氟雙草酸磷酸鋰Lithium difluorodioxalate phosphateC4F2LiO8P 電池級(EMC液態)20±2%(濃度)鋰電池電解液功效性新型增加劑
28濕電子化學品氫氟酸Hydrofluoric AcidHF電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
29超高純氣體氟化氫Hydrogen FluorideAHF電子級 UPSSS99.999%(5N)電子氣體,蝕刻工藝利用,將用于精深寬比的高層新一代產物刻蝕;
30濕電子化學品硫酸Sulphuric AcidH2SO4電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
31濕電子化學品氨水AmmoniaNH3.H2O電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
32濕電子化學品氟化銨Ammonium FluorideNH4F電子級 UPSS、UPS、EL、IN
電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
33濕電子化學品雙氧水Hydrogen Peroxide H2O2電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
34濕電子化學品鹽酸Hydrochloric AcidHCl電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
35濕電子化學品硝酸Acetic AcidHNO3電子級 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt電子級濕化學品,首要利用于集成電路、面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
36TFT化學品光阻剝離液StripperMixture電子級 EL
首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
37TFT化學品光阻洗凈液EBR Mixture電子級 EL
首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
38TFT化學品鋁蝕刻液Al Etchant Mixture電子級 EL
首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
39TFT化學品銅蝕刻液Cu EtchantMixture電子級 EL
首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
40TFT化學品BOE蝕刻液BOE EtachantMixture電子級 UPSS、UPS、 EL<100 ppt首要利用于面板、LED等的洗濯、蝕刻工藝制程進程
41根本化學品98%硫酸Sulphuric AcidH2SO4產業級IN

42根本化學品104.5%發煙硫酸Sulphuric AcidH2SO4產業級IN

43根本化學品精制硫酸Sulphuric AcidH2SO4產業級IN

44根本化學品三氧化硫Sulfur TrioxideSO3產業級IN